[发明专利]图案反射光学结构有效
| 申请号： | 200480025803.7 | 申请日： | 2004-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN1849566A | 公开（公告）日： | 2006-10-18 |
| 发明（设计）人： | 罗杰·W.·菲利浦;弗拉基米尔·P.·洛夏 | 申请（专利权）人： | JDS尤尼弗思公司 |
| 主分类号： | G03H1/04 | 分类号： | G03H1/04;B42D15/10;B44F1/04;G07D7/12 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人： | 郑小粤 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种包含光透射基片的光学结构，其中，将表面浮雕图案施加到所述光透射基片上，如全息图。反射材料图案层被应用在表面浮雕图案部分上，以形成文字数字符号、条形码或图解或绘画图案。为使表面浮雕图案的暴露部分产生期望的光学效果，在反射材料图案层和表面浮雕图案暴露部分上使用了光学活性涂层。在一些具体结构中，光学活性涂层为变色薄膜或包含变色片。任选地，光学活性涂层材料的折射率可与光透射基片的折射率显著匹配，以使未被反射材料覆盖的表面浮雕图案区部分不显示表面浮雕图案的光学效果。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 反射 光学 结构 | ||
【主权项】：
1.一种光学结构，包括：光透射基片，所述光透射基片包含第一表面和相对的第二表面，其中所述第二表面包括形成于其上的表面浮雕图案；反射材料图案层，所述反射材料图案层被运用于所述光透射基片的所述表面浮雕图案部分区域，以使所述表面浮雕图案部分区域被所述反射材料覆盖，所述表面浮雕图案其他部分被暴露；和光学活性涂层，所述光学活性涂层位于所述表面浮雕图案的反射材料图案层和暴露部分下。
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