[发明专利]微光刻技术用光刻胶组合物中的溶解抑制剂无效
| 申请号： | 200480025876.6 | 申请日： | 2004-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN1849557A | 公开（公告）日： | 2006-10-18 |
| 发明（设计）人： | 亚罗弥·沙哈布;弗拉其苏斯·约翰内斯·马里·戴尔克斯;安德烈·雅罗斯拉沃维奇·莱朴诺弗 | 申请（专利权）人： | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 肖善强 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种适于在10－165nm使用的光刻胶组合物，所述光刻胶组合物包括：(a)高分子粘合剂(b)光活性化合物(c)溶解抑制剂，所述溶解抑制剂包括至少(i)两个芳基、(ii)氟和(iii)经保护的酸基，当未经保护时，所述酸基的pKa＜12。优选的溶解抑制剂是任选经保护的双苯酚衍生物，其中所述桥碳原子用氟化脂族基取代。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 技术 用光 组合 中的 溶解 抑制剂 | ||
【主权项】：
1.适于在10-165nm使用的光刻胶组合物，所述组合物包括：(a)高分子粘合剂(b)光活性化合物(c)溶解抑制剂，所述溶解抑制剂包括至少(i)两个芳基，(ii)氟(iii)经保护的酸基，当未经保护时，所述酸基的pKa＜12。
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