[发明专利]纳米结构材料的沉积方法有效
| 申请号： | 200480025996.6 | 申请日： | 2004-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN1871378A | 公开（公告）日： | 2006-11-29 |
| 发明（设计）人： | 吴秀真;周子刚 | 申请（专利权）人： | 北卡罗来纳－查佩尔山大学 |
| 主分类号： | C25D15/00 | 分类号： | C25D15/00;H01J9/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 范赤;邹雪梅 |
| 地址： | 美国北卡*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种沉积纳米结构材料的图案化涂层到衬底上的方法，包括：(1)形成包含纳米结构材料的溶液或悬浮液；(2)掩蔽该衬底至少一个表面的至少一部分；(3)将电极浸入溶液中，在其上要沉积纳米结构材料的衬底用作一个电极或电连接到至少一个电极上；(4)在两个电极之间施加直流和/或交流电场一段时间，借此使溶液中的纳米结构材料向衬底电极迁移并附着自身到衬底电极上；和(5)后续的任选处理。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 结构 材料 沉积 方法 | ||
【主权项】：
1.一种沉积含纳米结构材料的图案到衬底上的方法，该方法包括：(i)在液体介质中形成预形成的含纳米结构材料的悬浮液；(ii)掩蔽该衬底至少一个表面的至少一部分；(iii)将电极浸入悬浮液中，其中至少一个电极包括该衬底或电连接到该衬底；和(iv)施加直流或交流电流到浸入电极上，借此在电极之间形成电场；由此使含纳米结构材料向被掩模暴露的衬底区域迁移并附着到其上。
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