[发明专利]用于化学机械抛光的磨料颗粒有效
| 申请号： | 200480026003.7 | 申请日： | 2004-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN1849379A | 公开（公告）日： | 2006-10-18 |
| 发明（设计）人： | J·－N·楚;J·N·普赖尔 | 申请（专利权）人： | 格雷斯公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;C09G1/02;H01L21/321 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 郭广迅;赵苏林 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于抛光基材的磨料组合物，包括许多具有多分散粒度分布的磨料颗粒，所述多分散粒度分布的中值粒度按体积为约20纳米到约100纳米；跨度值按体积为大于或等于约20纳米，其中大于约100纳米的颗粒分数小于或等于磨料颗粒的约20体积％。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械抛光 磨料 颗粒 | ||
【主权项】：
1.一种用于抛光基材的磨料组合物，包括：许多具有多分散粒度分布的磨料颗粒，所述多分散粒度分布的中值粒度按体积为约20纳米到约100纳米；跨度值按体积为大于或等于约20纳米，其中大于约100纳米的所述颗粒分数小于或等于磨料颗粒的约20体积％。
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