[发明专利]光学三维造型方法及装置有效
| 申请号： | 200480026047.X | 申请日： | 2004-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN1849207A | 公开（公告）日： | 2006-10-18 |
| 发明（设计）人： | 上野高邦 | 申请（专利权）人： | 纳博特斯克株式会社 |
| 主分类号： | B29C67/00 | 分类号： | B29C67/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 蔡胜利 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种方法和装置包括使用可以连续改变掩模图像的平面绘制掩模；相对于光硬化树脂组合物的表面连续移动平面绘制掩模，并且通过平面绘制掩模使光硬化树脂组合物的表面被光照射，同时根据将要形成的光硬化树脂层的横截面轮廓图案并且与平面绘制掩模的运动同步地连续改变平面绘制掩模的掩模图像，由此形成具有预定横截面轮廓图案的光硬化树脂层；以及进行光学造型操作以使得光硬化树脂层中相邻绘制区域之间的边界区域在最终获得的立体造型三维物体中不显眼。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 三维 造型 方法 装置 | ||
【主权项】：
1、一种用于形成立体造型三维物体的立体造型方法，该方法顺序重复下面的光学造型步骤直到形成预定的立体造型三维物体：以受控的方式通过平面绘制掩模使光硬化树脂组合物的表面被光照射，由此形成具有预定横截面轮廓图案的光硬化树脂层；在光硬化树脂层上面施加一层光硬化树脂组合物；并且以受控的方式通过平面绘制掩模使光硬化树脂组合物的表面被光照射，由此进一步形成具有预定横截面轮廓图案的光硬化树脂层；所述方法包括：将可以连续改变掩模图像的平面绘制掩模用作所述平面绘制掩模；进行下面的造型操作：在至少一个光学造型步骤中相对于光硬化树脂组合物的表面连续移动平面绘制掩模，并且通过平面绘制掩模使光硬化树脂组合物的表面被光照射，同时根据将要形成的光硬化树脂层的横截面轮廓图案并且与平面绘制掩模的运动同步地连续改变平面绘制掩模的掩模图像，由此形成具有预定横截面轮廓图案的光硬化树脂层；以及进行光学造型操作以使得光硬化树脂层中相邻绘制区域之间的边界区域在最终获得的立体造型三维物体中不显眼。
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