[发明专利]层压光敏凸版印刷原版以及制造该凸版印刷版的方法无效
| 申请号： | 200480026050.1 | 申请日： | 2004-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN1849556A | 公开（公告）日： | 2006-10-18 |
| 发明（设计）人： | 高木利哉;藤本隆史 | 申请（专利权）人： | 东京応化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;B41C1/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 郭广迅;邹雪梅 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种凸版印刷原版，包括基材、在其上对紫外线辐射有光敏性的光敏树脂层以及在其上兼具紫外线和非紫外线吸收性的掩模层，紫外线吸收性随着接收非紫外线辐射而失活。也提供一种通过使用该原版生产凸版印刷版的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 层压 光敏 凸版印刷 原版 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种凸版印刷原版，包括：基材；光敏层，其层压在所述基材上并且对紫外线辐射是光敏性的；以及掩模层，其层压在光敏层上，所述掩模层具有吸收紫外线辐射和非紫外线辐射的能力，所述掩模层的紫外线吸收性随着接收所述非紫外线辐射而失活。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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