[发明专利]光刻化学工艺的自适应性热控制

摘要

本发明公开了用于热控制光刻化学工艺的系统、装置和方法。热控制系统包括包含多个热传感器元件的多区带热感应单元。这些热元件被配置用于检测衬底上多个预定义区带的温度。该系统还包括包含多个热耦元件的多区带热调整单元，这些热耦元件被配置用于调整预定义区带的温度。该系统还包括可操作地并且可通信地耦合到多区带热感应单元和多区带热调整单元的热控制器单元。热控制器单元接收来自多区带热感应单元的检测温度，处理所检测的温度信息，基于经处理的温度信息生成温度控制信息，并将温度控制信息传输到多区带热调整单元以调整预定义区带的温度。

主权项

1.一种用于化学处理光刻衬底的热控制系统，包括：多区带热感应单元，其包含多个热传感器元件，所述热传感器元件检测所述衬底上多个预定义区带的温度；多区带热调整单元，其包含多个热耦元件，所述热耦元件调整所述预定义区带的温度；以及可操作地并且可通信地耦合到所述多区带热感应单元和所述多区带热调整单元的热控制器单元，所述热控制器单元包含逻辑电路以接收来自所述多区带热感应单元和所述多区带热调整单元的信息，处理信息，并将信息提供到所述多区带热感应单元和所述多区带热调整单元，其中所述多区带热感应单元将所检测的温度信息传输到所述热控制器单元，并且所述热控制器单元处理所述检测的温度信息，基于所述经处理的温度信息生成温度控制信息，并将所述温度控制信息传输到所述多区带热调整单元以调整所述预定义区带的温度。