[发明专利]低多分散性可光成像的聚合物、光致抗蚀剂和微版印刷术无效
| 申请号： | 200480026226.3 | 申请日： | 2004-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN1856741A | 公开（公告）日： | 2006-11-01 |
| 发明（设计）人： | A·E·费林;M·菲德;F·L·查特三世 | 申请（专利权）人： | E.I.内穆尔杜邦公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;C08F220/10;C08F220/22;C08F232/00;C08F2/32 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 沙永生 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及可用于光成像的低多分散性共聚物和光致抗蚀剂组合物，还涉及使用这些组合物的光成像法。本发明的低多分散性共聚物使用RAFT(可逆加成裂解链转移)聚合之类的受控自由基聚合(CRP)技术制备。 | ||
| 搜索关键词： | 分散性 成像 聚合物 光致抗蚀剂 印刷术 | ||
【主权项】：
1.一种低多分散性共聚物，该共聚物包含：a.源自丙烯酸类单体的重复单元；b.源自不饱和多环单体的重复单元；c.选自氟代醇、保护的氟代醇和保护的酸基的官能团；其中所述低多分散性共聚物中至少40摩尔％的重复单元源自丙烯酸类单体。
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