[发明专利]过滤元件及其生产方法

摘要

本发明涉及一种生产过滤元件的方法，所述方法包括以下步骤：S1)施加膜层(1)到载体衬底(2)上；S2)在与膜层(1)相对的载体衬底(2)面上蚀刻膜室(3)，从而只保留载体衬底(2)的一个残余层(5)；S3)在膜层(1)中产生孔(6)以便形成穿孔膜；S4)通过蚀刻除去残余层(5)以便暴露膜层(1)；S5)对膜层(1)进行附加处理以提高机械阻力，所述处理发生在步骤S1中或在后续步骤中。膜层由于所述处理具有结晶结构和/或压缩结构和产物，其中结晶结构具有相对于膜层(1)的原料提高的机械阻力，由此优选产生其中的内部初始应力。

主权项

1.一种生产过滤元件的方法，包括以下步骤：S1)施加膜层到载体衬底上，S2)在与膜层相对的载体衬底面上蚀刻膜室，从而仍保留载体衬底的残余层，S3)通过光刻和蚀刻方法在膜层中产生孔以便形成穿孔膜，S4)通过蚀刻除去残余层以便暴露膜层，S5)在步骤S1中或在后续步骤中对膜层进行附加处理以提高机械强度。