[发明专利]使用适应性多元分析诊断处理系统的方法和系统有效
| 申请号： | 200480026419.9 | 申请日： | 2004-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN1849599A | 公开（公告）日： | 2006-10-18 |
| 发明（设计）人： | 凯文·安德鲁·卡姆尼斯 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G06F17/10 | 分类号： | G06F17/10;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王怡 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种监视处理系统的方法和系统，所述处理系统用于在半导体制造过程期间处理衬底。从所述处理系统获取多次观察的数据(510)，所述数据包括多个数据参数。从所述数据构建主成分分析(PCA)模型，所述模型包括中心化系数(520)。从所述处理系统获取附加数据(550)，所述附加数据包括所述多个数据参数的附加观察。调整所述中心化系数以产生用于所述PCA模型中所述数据参数的每一个的更新后的适应性中心化系数。将所述更新后的适应性中心化系数应用于所述PCA模型中所述数据参数的每一个(560)。利用所述PCA模型从所述附加数据确定至少一个统计量(560)。设置用于所述统计量的控制限度(570)，并将所述统计量与所述控制限度相比较(580)。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 适应性 多元 分析 诊断 处理 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种监视用于在半导体制造过程期间处理衬底的处理系统的方法，包括：从所述处理系统获取多次观察的数据，所述数据包括多个数据参数；从所述数据构建主成分分析模型，所述模型包括中心化系数；从所述处理系统获取附加数据，所述附加数据包括所述多个数据参数的附加观察；调整所述中心化系数以产生用于所述主成分分析模型中所述数据参数的每一个的更新后的适应性中心化系数；将所述更新后的适应性中心化系数应用于所述主成分分析模型中所述数据参数的每一个；利用所述主成分分析模型从所述附加数据确定至少一个统计量；设置用于所述至少一个统计量的控制限度；以及将所述至少一个统计量与所述控制限度相比较。
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