[发明专利]使用旋转涂覆制造基于PDLC的光电调制器的方法无效
| 申请号： | 200480026437.7 | 申请日： | 2004-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN1852770A | 公开（公告）日： | 2006-10-25 |
| 发明（设计）人： | 陈仙海;亚历山大·纳吉 | 申请（专利权）人： | 光子动力学公司 |
| 主分类号： | B05D1/36 | 分类号： | B05D1/36;B05D3/12 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 余朦;方挺 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在受控的溶剂蒸发条件下，通过将水基乳状液或溶剂型传感材料(优选为溶剂型聚合物分散液晶(PDLC))旋转涂覆到基底上，来形成光电结构。在特定的工艺中，通过以下步骤获得均匀的PDLC覆层：1)在半密封的腔室中进行旋转涂覆；2)通过使用固定装置将方形的基底“转化”为圆形的基底；3)使所述基底和旋转涂覆器的顶部盖之间具有可控制的距离；4)提供可控制的溶剂蒸发率。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 旋转 制造 基于 pdlc 光电 调制器 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造光电调制器结构的方法，所述方法包括：提供具有规则表面的玻璃基底；利用受控蒸发而不使用粘合剂将传感材料旋转涂覆到所述规则表面，以获得被涂覆的基底；将作为粘合层的水基乳状液旋转涂覆到所述被涂覆基底的所述传感材料上，以获得涂覆有粘合剂的基底；以及将薄膜层合到所述涂覆有粘合剂的基底上。
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