[发明专利]抗蚀化合物和辐射敏感组合物无效
申请号: | 200480026859.4 | 申请日: | 2004-08-30 |
公开(公告)号: | CN1853141A | 公开(公告)日: | 2006-10-25 |
发明(设计)人: | 小黑大;越后雅敏 | 申请(专利权)人: | 三菱瓦斯化学株式会社 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;C07D309/12;C07D311/82;C07D311/96;C07C43/23;C07C69/96;H01L21/027 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 龙传红 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 右式(1)表示的化合物,其中R1、R2、R4、R5、m0至m2、和n0至n2如说明书中所定义。还提供含有式(1)化合物作为固体组分的主要组分的辐射敏感组合物。该组合物敏感度、分辨率、耐热性、抗蚀性、和在溶剂中的溶解性极好。 | ||
搜索关键词: | 化合物 辐射 敏感 组合 | ||
【主权项】:
1.一种辐射敏感组合物,包含1-80重量%的固体组分和20-99重量%的溶剂,该组合物含有满足以下要求a和b的化合物B:(a)具有通过在由各自有5至45个碳原子的芳族酮或芳族醛与有6至15个碳原子和1至3个酚式羟基的化合物缩合反应产生的多酚化合物A的至少一个酚式羟基中引入酸解离官能团形成的结构,和(b)具有300至3000的分子量;而且化合物B和增溶剂的总量占固体组分总重的50-99.999重量%。
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