[发明专利]对无电沉积的终点进行检测的装置和方法

摘要

本发明公开了一种对无电沉积处理进行控制的装置和方法，所述控制是通过如下方式进行的：将电磁辐射导向衬底表面并检测衬底表面的构件上反射离开的一个或多个波长处的电磁辐射强度改变。在一种实施例中，在衬底相对于检测机构运动的同时对检测到的无电沉积处理步骤的终点进行衡量。在另一种实施例中，用多个检测点监视整个衬底表面的沉积处理状态。在一种实施例中，检测机构浸入衬底上的无电沉积流体中。在一种实施例中，用控制器使用存储的工艺值、对不同时刻收集到的数据的比较以及各种计算所得的时变数据来对无电沉积处理进行监视、存储和/或控制。

主权项

1.一种用于对无电沉积处理进行监视的装置，包括：室；设置在所述室中的衬底支座，所述衬底支座具有衬底接收表面；朝向所述衬底接收表面的电磁辐射源；检测器，所述检测器在无电沉积处理期间检测从安装在所述衬底接收表面上的衬底反射的电磁辐射的强度；以及控制器，所述控制器用于接收来自所述检测器的信号并对所述无电沉积处理进行控制。