[发明专利]照射光学装置、曝光装置及曝光方法

摘要

一种可以防止通过由例如萤石的立方系晶体材料形成的透光部件的线性偏振光的偏振状态的改变的照射光学系统。一种照射光学系统，包括，光源单元(1)，用于用来自光源单元的光提供线性偏振光来照射将要照射的表面(M、W)。该系统包括被设置在光源单元和将要照射的表面之间的光路上的偏振状态切换装置(10，20)，用于在线性偏振状态和非线性偏振状态之间切换用于照射将要照射的表面的光的偏振状态。偏振状态切换装置具有相位部件(10)，用于按需要改变入射线性偏振光的偏振面，以及消偏振镜(20)，用于按需要对入射线性偏振光消偏振。将与由萤石形成的透光部件的双折射变化有关的相位超前轴方向设置成与入射到透光部件上的线性偏振光的场振动方向基本一致或正交。

主权项

1.一种包括由晶体材料形成的光学透明部件的光学系统，其特征在于，在受到光学照射时与所述光学透明部件的双折射变化有关的快轴的方向被设置成与入射到所述光学透明部件上的线性偏振光的电场的振动方向基本上一致或基本上正交。