[发明专利]固体表面的上光方法及覆膜形成用涂布液无效
| 申请号： | 200480027325.3 | 申请日： | 2004-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN1856369A | 公开（公告）日： | 2006-11-01 |
| 发明（设计）人： | 齐藤彻;栃川宏文;牧野公博;东条英明 | 申请（专利权）人： | 日华化学株式会社;本田技研工业株式会社 |
| 主分类号： | B05D5/06 | 分类号： | B05D5/06;B05D7/24;C09D175/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王健 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种固体表面的上光方法，其通过在固体表面上形成覆膜，对该固体表面赋予光泽，其包括：使用至少含有以下成分的覆膜形成用涂布液：具有大于等于2个异氰酸酯基的异氰酸酯化合物、具有与上述异氰酸酯基反应而键合的官能团的合成树脂、和有机溶剂；将上述覆膜形成用涂布液涂布于上述固体表面的涂布工序；和在上述涂布工序之后在上述固体表面形成覆膜的覆膜形成工序，其特征在于：在上述涂布工序中，调节上述覆膜形成用涂布液的涂布量以使上述覆膜形成工序后的覆膜的膜厚达到0.1μm～5μm的范围。 | ||
| 搜索关键词： | 固体 表面 上光 方法 形成 用涂布液 | ||
【主权项】：
1.一种固体表面的上光方法，其通过在固体表面上形成覆膜，对该固体表面赋予光泽，其包括：使用至少含有以下成分的覆膜形成用涂布液：具有大于等于2个异氰酸酯基的异氰酸酯化合物、具有与上述异氰酸酯基反应而键合的官能团的合成树脂、和有机溶剂，将上述覆膜形成用涂布液涂布于上述固体表面的涂布工序，和在上述涂布工序之后在上述固体表面形成覆膜的覆膜形成工序；其特征在于：在上述涂布工序中，调节上述覆膜形成用涂布液的涂布量以使上述覆膜形成工序后的覆膜的膜厚达到0.1μm～5μm的范围。
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