[发明专利]用于对大地测量仪器的实际位置进行确定的方法和装置无效

专利信息
申请号: 200480027482.4 申请日: 2004-09-09
公开(公告)号: CN1856692A 公开(公告)日: 2006-11-01
发明(设计)人: 汉斯·于尔根·奥伊勒 申请(专利权)人: 莱卡地球系统公开股份有限公司
主分类号: G01C11/04 分类号: G01C11/04
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 李辉
地址: 瑞士海*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要: 为了确定其中源自定位系统的信号受到遮蔽的死角范围(T)内的大地测量仪器(1)的实际位置(A),从至少两个已知位置检测两个基准结构(5),并测量与基准结构(5)相关联的距离。捕获链接到所述距离测量的图像信息。所述信息包含有关基准结构(5)的排列的数据。可以根据随后从死角范围(T)内的一个位置对基准结构(5)的捕获,来导出实际位置(1)。有利地使用图像处理方法来识别并测量基准结构(5)。
搜索关键词: 用于 大地测量 仪器 实际 位置 进行 确定 方法 装置
【主权项】:
1、用于对大地测量仪器(1、1′)的实际位置(A)进行确定的方法,包括:定位系统,其基于对可遮蔽的信号的接收,和死角范围(T、T′),在该死角范围(T、T′)内,按使由定位系统直接确定实际位置(A)至少受到限制的方式,削弱了传播的信号,该方法包括以下步骤:从由定位系统具体确定的第一已知位置(P1)记录第一条图像信息,该第一条图像信息具有可以至少从死角范围(T、T″)的局部区域检测到的至少两个可识别的基准结构(5、5′、5″);并测量距第一已知位置(P1)的至少一个第一距离,该第一距离被间接地或直接地与基准结构(5、5′、5″)配合起来,从由定位系统具体确定的第二已知位置(P2)记录第二条图像信息,该第二条图像信息具有所述至少两个可识别的基准结构(5、5′、5″);并测量距第二已知位置(P2)的至少一个第二距离,该第二距离被间接地或直接地与基准结构(5、5′、5″)配合起来,从实际位置(A)记录一条实际图像信息,该实际图像信息具有所述至少两个可识别的基准结构(5、5′、5″);并测量距实际位置(A)的至少一个实际距离,该实际距离被间接地或直接地与基准结构(5、5′、5″)配合起来,通过参照所述至少两个基准结构(5、5′、5″),导出实际位置(A),可以重复单个步骤或多个步骤。
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