[发明专利]用于曝光衬底的浸没式光刻方法和装置有效
| 申请号： | 200480027622.8 | 申请日： | 2004-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN1864102A | 公开（公告）日： | 2006-11-15 |
| 发明（设计）人： | M·尼霍夫 | 申请（专利权）人： | 英飞凌科技股份公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘春元;魏军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及照明衬底(405)的浸没式光刻方法。当衬底(405)被照明时，浸没液被导入成像元件和衬底之间，并且根据所述方法，通过沿着载体(409)的移动方向改变照明标线(402)与要被照明的衬底(405)的表面之间的射束方向上的距离，调整要被照明的衬底(405)的表面的照明的景深和/或分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 曝光 衬底 浸没 光刻 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于曝光衬底的浸没式光刻方法，该方法通过扫描曝光装置来执行，该扫描曝光装置具有：射束源，该射束源产生射束，支架，该支架容纳标线，载体，在该载体上布置有衬底，成像元件，该成像元件被布置在该标线和该衬底之间，和其中，在曝光衬底期间，浸没液被导入该成像元件和该衬底之间，其中，所述射束从辐射源通过该标线、通过所述成像元件并通过所述浸没液到达要被曝光的衬底表面，其中，所述射束沿第一方向扫描所述标线，其中，在曝光所述要被曝光的衬底表面期间，所述载体沿第二方向移动，其中，通过在利用所述标线进行曝光期间沿所述载体的移动方向改变所述标线与所述要被曝光的衬底表面之间的射束方向上的距离来设置所述衬底曝光的景深和/或分辨率，该距离以这样的方式被改变，即补偿在曝光期间由浸没液在曝光期间的温度变化引起的景深和/或分辨率的变化。
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