[发明专利]将气体输送至一个腔和将气体从腔排出的装置有效
| 申请号： | 200480027810.0 | 申请日： | 2004-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN1856593A | 公开（公告）日： | 2006-11-01 |
| 发明（设计）人： | M·切尔尼亚克 | 申请（专利权）人： | 英国氧气集团有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 蔡民军;杨松龄 |
| 地址： | 英国英格*** | 国省代码： | 英国;GB |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种装置，其包括：具有腔入口和腔出口的腔；接收第一气流的第一入口；接收第二气流的第二入口；将第一气流排入第一真空泵的第一出口；将第二气流排入第二真空泵的第二出口；将第一入口连接到第一出口和将第二入口连接到第二出口的管道网，以便在各自入口和出口之间限定用于每一气流的第一和第二流道，所述第一流道穿过所述腔入口和腔出口，所述第二流道绕过所述腔；以及通过所述管道网输送气流的装置，以便当一种气流沿着其第一流道流动时，另一种气流沿着其第二流道流动。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 输送 一个 排出 装置 | ||
【主权项】：
1.一种装置，其包括：具有腔入口和腔出口的腔；接收第一气流的第一入口；接收第二气流的第二入口；将第一气流排入第一真空泵的第一出口；将第二气流排入第二真空泵的第二出口；将第一入口连接到第一出口和将第二入口连接到第二出口的管道网，以便在各自入口和出口之间限定用于每一气流的第一和第二流道，所述第一流道穿过所述腔入口和腔出口，所述第二流道绕过所述腔；以及通过所述管道网输送气流的装置，以便当一种气流沿着其第一流道流动时，另一种气流沿着其第二流道流动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英国氧气集团有限公司，未经英国氧气集团有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200480027810.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种废盐酸再生除硅工艺及设备
- 下一篇：胃愈胶囊
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
