[发明专利]活动扫描场有效
| 申请号： | 200480027868.5 | 申请日： | 2004-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN1856383A | 公开（公告）日： | 2006-11-01 |
| 发明（设计）人： | A·T·基泰;J·S·埃尔曼 | 申请（专利权）人： | 通明国际科技公司 |
| 主分类号： | B23K26/08 | 分类号： | B23K26/08 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周建秋;王凤桐 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种能量束加工系统，包括发射能量束的发射器和将系统的瞳孔尺寸调节为多个值的波束调节光学器件，例如缩放望远镜。瞳孔尺寸的调节可以自动、半自动或者手动进行。在手动模式中，可以提供说明给操作员(例如通过监视器或者预先编程的语音说明)以表明如何调节瞳孔尺寸。聚焦透镜将沿着各个路径导引调节后的波束聚焦到所述聚焦透镜的视场包含的扫描场内的不同焦点。波束导引光学器件配置为支持所述聚焦透镜的视场内的多种扫描场。 | ||
| 搜索关键词： | 活动 扫描 | ||
【主权项】：
1.一种灵活优化的材料加工系统，包括：激光发射器，配置为发射激光波束；波束调节光学器件，具有一定的波束放大率，并且配置为通过调节波束放大率而调节所发射的激光波束；波束导引光学器件，配置为提供与调节后的激光波束相对应的可变有效瞳孔，所述波束导引光学器件进一步配置为将调节后的波束导引到扫描场内的一个或多个目标；透镜，具有至少包含所述扫描场的视场，配置为将导引的激光波束聚焦到所述扫描场内的一个或多个目标上；以及控制处理器，配置为接收与材料加工参数相对应的输入，并且基于至少一个所述材料加工参数而发出至少一个优化控制信号。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于通明国际科技公司，未经通明国际科技公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200480027868.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
