[发明专利]磁记录介质及其制造方法无效
| 申请号： | 200480027882.5 | 申请日： | 2004-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN1856824A | 公开（公告）日： | 2006-11-01 |
| 发明（设计）人： | 服部一博;高井充 | 申请（专利权）人： | TDK股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/667 | 分类号： | G11B5/667;G11B5/738;G11B5/851;G11B5/84 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 高龙鑫;王玉双 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种表面粗糙度小而且低成本的磁记录介质以及磁记录介质的制造方法。软磁层16是将基板12侧的第一软磁层26、和记录层20侧的第二软磁层28层叠而构成；以第二软磁层28在记录层20侧的面28A的表面粗糙度小于基板12的基面12A的表面粗糙度，并且也小于第一软磁层26在记录层20侧的面26A的表面粗糙度的方式形成第二软磁层28。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录介质，在至少使单面为基面的基板的上述基面上，依次形成软磁层、记录层，其特征在于，在上述基板与上述记录层之间设置有中间层，该中间层在上述记录层侧的面的表面粗糙度小于上述基板的基面的表面粗糙度。
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