[发明专利]液浸型透镜系统、投影曝光装置和器件制造方法无效
申请号: | 200480028050.5 | 申请日: | 2004-09-29 |
公开(公告)号: | CN1860585A | 公开(公告)日: | 2006-11-08 |
发明(设计)人: | 冈田宪明 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;G03F7/20;G02B13/24 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李春晖 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供了可以被长期稳定使用的高性能液浸型透镜系统以及与其一起提供的投影曝光装置。本发明的液浸型透镜系统包括:光学系统主体(30),其具有处于沿其光轴一端的光学表面33a,所述光学表面33a接触第一浸液IL1;具有分别处于沿光轴的各端的两个表面的光透射组件42,该组件被放置为与光学系统主体30的光学表面33a相对,两个表面中的一个表面42a接触第一浸液IL1,两个表面中的另一个表面42b接触第二浸液IL2;以及支持组件41,其可拆卸地支撑光透射组件42,使得一个表面42a与光学系统主体30的光学表面33a相对。此外,本发明的投影曝光装置包括这种液浸型透镜系统。 | ||
搜索关键词: | 液浸型 透镜 系统 投影 曝光 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种液浸型透镜系统,包括:光学系统主体,其具有处于沿其光轴的一端的光学表面,所述光学表面接触第一浸液;具有分别处于沿光轴的各端的两个表面的光透射组件,该光透射组件被放置为与光学系统主体的光学表面相对,两个表面中的一个表面接触第一浸液,两个表面中的另一个表面接触第二浸液;以及支持组件,其可拆卸地支撑光透射组件,使得所述一个表面与光学系统主体的光学表面相对。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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