[发明专利]在干法电解铝生产用的电解池中添加粉状物料的控制方法和系统有效
申请号: | 200480028705.9 | 申请日: | 2004-09-28 |
公开(公告)号: | CN1863942A | 公开(公告)日: | 2006-11-15 |
发明(设计)人: | 克洛德·李特尔;伯努瓦·舒尔蒙特 | 申请(专利权)人: | 皮奇尼铝公司 |
主分类号: | C25C3/14 | 分类号: | C25C3/14;C25C3/20 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 余全平 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明涉及在电解池中添加粉状物料的控制方法,所述电解池用于通过干法电解生产铝,并且配备有至少一粉状物料分配器和至少一穿孔装置(30),所述穿孔装置包括一致动器(31)和一穿孔器(33),在所述方法中,借助一穿孔装置在所述固化电解剂壳层中形成至少一孔口,并按照一正常的供料程序,通过至少一孔口注入粉状物料,在所述方法中,在一确定时刻to产生一电信号,以便借助所述致动器(31)引起所述穿孔器下降;当所述穿孔器达到一确定的低位时测量时刻t;从to的值和在时刻t所获得的值计算至少一个粉状物料供给运行指示标F的值;从至少一个运行标准和所述运行指示标的值,确定运行是否异常;如果运行未被判定为异常,则保持正常的供料程序;如果运行被判断为异常,则启动至少一个校正程序(“调节/正常化”程序),以便将粉状物料的供料恢复到正常运行。本发明方法可以很容易地实现自动化和甚至在有阳极效应的情况下也能对供料运行进行监控。 | ||
搜索关键词: | 电解铝 生产 电解池 添加 粉状 物料 控制 方法 系统 | ||
【主权项】:
1.在电解池(1)中添加粉状物料的控制方法,所述电解池(1)用于通过干法电解生产铝,并且配备有至少一粉状物料分配器(20)和至少一穿孔装置(30),所述穿孔装置(30)包括一致动器(31)和一穿孔器(33),所述电解池容纳一液态电解剂(7)且其运转使得:在所述液态电解剂(7)的上方形成一氧化铝和固化电解剂的壳层(10),在所述方法中,借助一穿孔装置(30)在所述壳层(10)中形成至少一孔口(11),并按照一确定的加料注入程序——称为“正常供料程序”,通过至少一孔口(11)注入粉状物料,所述方法的特征在于:—在一确定时刻to产生一电信号S,所述电信号适于借助所述致动器(31)引起所述穿孔器(33)的下降,—测量所述穿孔器(33)达到一确定的低位P的时刻t,—确定由一函数F(to,t)给出的至少一个粉状物料供给运行指示标的值,—从至少一个运行标准和所述运行指示标F的值,确定运行是否异常,—如果运行未被判定为异常,则保持正常的供料程序,—如果运行被判断为异常,则启动至少一个校正程序,即“调节/正常化”程序,其可以将粉状物料的供料恢复到正常运行。
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