[发明专利]天冬氨酸酯衍生物及其制备方法无效
| 申请号： | 200480028942.5 | 申请日： | 2004-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN1863842A | 公开（公告）日： | 2006-11-15 |
| 发明（设计）人： | R·R·勒斯勒;D·A·威克;T·D·韦特;B·朗;K·丹尼尔迈耶;C·A·甘比诺 | 申请（专利权）人： | 拜尔材料科学有限公司 |
| 主分类号： | C08G69/02 | 分类号： | C08G69/02;C07C233/00;C07C269/04;C07C271/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 徐迅 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及新的天冬氨酸酯及其生产方法，以及这些单天冬氨酸酯或多天冬氨酸酯作为用于多异氰酸酯的活性组分在双组分聚氨酯涂料组合物和制备聚氨酯预聚物中的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 天冬氨酸 衍生物 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种天冬氨酸酯，其通式为：![]()
其中，X表示m价的有机残基，其通过从单胺或多胺中除去一个或多个伯氨基而得到，所述单胺或多胺具有与脂(环)族基团连接的氨基、数均分子量为60-6000，所述单胺或多胺还可含有其它官能团，这些其它官能团能与异氰酸酯基反应或在最高为100℃的温度下对异氰酸酯基呈惰性，R1和R2可相同或不同，表示氢或在温度等于或小于100℃时对异氰酸酯基呈惰性的有机基团，R3和R4可相同或不同，表示在温度等于或小于100℃时对异氰酸酯基呈惰性的有机基团，R5表示选自C2H4、C3H6和C5H10的基团，a和b表示从1到5的整数，前提是a和b之和为2-6，以及当R5表示C2H4或C3H6时，x为1，而当R5表示C5H10时，x为0。
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