[发明专利]微特征工件处理装置和用于在微特征工件上批量沉积材料的方法有效
申请号: | 200480028981.5 | 申请日: | 2004-08-18 |
公开(公告)号: | CN1863939A | 公开(公告)日: | 2006-11-15 |
发明(设计)人: | 玲仪·A·郑;忠·T·段;莱尔·D·博纳;郱迩萱;罗纳德·A·魏玛;大卫·J·库比斯塔;凯文·L·比曼;赛姆·巴斯塞里 | 申请(专利权)人: | 微米技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 刘晓峰 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明提供了例如通过使用原子层沉积将材料沉积在微电子半导体上用于处理微特征工件的设备和方法。这些设备的一些包括微特征工件保持器,所述微特征工件保持器包括气体分配器。一个示范性实施方式提供了适于保持多个微特征工件的微特征工件保持器。所述工件保持器包括多个工件支撑件和气体分配器。所述工件保持器适于支撑呈以定距离间隔的关系的多个微特征工件,以在每个微特征工件的表面附近限定处理空间。所述气体分配器包括入口和多个出口,其中每个出口都设置为指引工艺气体流到处理空间的其中之一中。 | ||
搜索关键词: | 特征 工件 处理 装置 用于 批量 沉积 材料 方法 | ||
【主权项】:
1.一种适于保持用于化学处理的多个微特征工件的微特征工件保持器,包括:纵向延伸件,具有沿所述纵向延伸件的长度纵向隔开的多个工件支撑件,所述工件支撑件适于支撑用于处理的呈定距离间隔的关系的所述多个微特征工件;以及纵向延伸气体输送导管,由所述纵向延伸件承载,并且具有入口、第一出口、和与所述第一出口纵向隔开的第二出口,所述第一出口设置为在第一对工件支撑件中间指引工艺气体流,所述第二出口设置为在第二对工件支撑件中间指引工艺气体流。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的