[发明专利]薄膜的沉积无效
| 申请号： | 200480028997.6 | 申请日： | 2004-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN1863853A | 公开（公告）日： | 2006-11-15 |
| 发明（设计）人： | R·德雷克;A·瑟吉纳;S·B·里斯;J·汉宁顿;L·A·奥黑尔;S·里德 | 申请（专利权）人： | 陶氏康宁公司 |
| 主分类号： | C08J7/04 | 分类号： | C08J7/04;B05D1/28;B05D3/14;G02F1/1337;C09D4/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 刘明海 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 施加构图的薄膜到基片上的方法，该方法包括下述步骤：等离子体处理基片；通过软平版印刷技术，优选微接触印刷技术，施加液体涂布材料到基片表面上，在其上形成构图膜，其中所述涂布材料包括选自有机聚硅氧烷聚合物、有机聚硅氧烷低聚物、有机硅树脂和聚硅烷中的一种或多种化合物。视需要，可从基片表面上除去任何残留的液体涂布材料。该方法不要求液体涂布材料经历固化步骤，而这是在Decal转印微平版印刷技术中要求的。可在印刷之前，使用任何合适的等离子体处理形式来活化基片。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 沉积 | ||
【主权项】：
1.一种施加构图薄膜到基片上的方法，该方法包括下述步骤：i)等离子体处理基片ii)通过软平版印刷技术，施加液体涂布材料到基片表面上，在其上形成构图膜，其中所述涂布材料包括选自有机聚硅氧烷聚合物、有机聚硅氧烷低聚物、有机硅树脂和聚硅烷中的一种或多种化合物；和iii)视需要，从基片表面上除去残留的液体涂布材料；其中该方法不要求液体涂布材料经历固化步骤。
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