[发明专利]青霉烷晶体及其制备方法有效
| 申请号： | 200480029286.0 | 申请日： | 2004-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN1863808A | 公开（公告）日： | 2006-11-15 |
| 发明（设计）人： | 德丸祥久;岛林昭裕 | 申请（专利权）人： | 大塚化学株式会社;大鹏药品工业株式会社 |
| 主分类号： | C07D499/00 | 分类号： | C07D499/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 杨青;樊卫民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供新的2α－甲基－2β－[(1，2，3－三唑－1－基)甲基]青霉烷－3α－羧酸二苯甲基酯(TMPB)－丙酮晶体用于制备2α－甲基－2β－[(1，2，3－三唑－1－基)甲基]青霉烷－3α－羧酸1，1－二氧化物二苯甲基酯(TAZB)；一种制备TMPB－丙酮晶体的方法，包括下列步骤：(A)浓缩含TMPB的有机溶剂溶液；(B)将所得浓缩物溶解在丙酮中；以及(C)从由此获得的丙酮溶液中析出TMPB－丙酮晶体；以及一种制备TAZB的方法，包括TMPB－丙酮晶体与氧化剂反应的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 青霉 晶体 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1. 2α-甲基-2β-[(1，2，3-三唑-1-基)甲基]青霉烷-3α-羧酸二苯甲基酯-丙酮晶体。
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C07 有机化学
C07D 杂环化合物
C07D499-00 杂环化合物，含有4-硫杂-1-氮杂双环［3.2.0］庚烷环系，即含有下式环系的化合物 ，例如，青霉素，青霉烯；这类环系进一步稠合，例如与含氧、含氮或含硫杂环2,3-稠合
C07D499-04 .制备
C07D499-21 .有氮原子直接连在位置6和3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子，例如酯基或氰基，直接连在位置2
C07D499-86 .只有1个除氮原子外的原子直接连在位置6，3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子，例如酯基或氰基，直接连在位置2
C07D499-87 .在位置3未取代或在位置3连有除仅两个甲基外的取代基，并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子，例如酯基或氰基，直接连在位置2的化合物
C07D499-88 .在位置2和3之间有双键并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子，例如酯基和氰基，直接连在位置2的化合物
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