[发明专利]用于确定最佳抗蚀剂厚度的方法无效
| 申请号： | 200480029338.4 | 申请日： | 2004-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN1864101A | 公开（公告）日： | 2006-11-15 |
| 发明（设计）人： | D·齐格尔 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/26 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 龚海军;张志醒 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 在一个示例实施例中，存在一种用于确定近似最佳抗蚀剂厚度的方法(600)，包括提供使用第一涂覆程序涂覆有抗蚀剂薄膜的第一衬底(605，610)，该抗蚀剂薄膜具有第一厚度。测量抗蚀剂的第一厚度(615，620)。提供第二衬底(625)并且使用第一涂覆程序给第二衬底涂覆抗蚀剂薄膜。第二衬底上的抗蚀剂薄膜曝光于辐射。测量接近抗蚀剂薄膜的光化波长的反射谱(630)。作为反射谱周期性的函数，确定有效折射率。基于该有效折射率，确定涂覆在第二衬底上的抗蚀剂薄膜的摆动曲线的周期性(635)。最大值和最小值被确定为周期性的函数。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 确定 最佳 抗蚀剂 厚度 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于确定近似最佳抗蚀剂厚度的方法(100)，包括以下步骤：a)提供使用第一涂覆程序(105)涂覆有抗蚀剂薄膜的第一衬底(110)，该抗蚀剂薄膜具有第一厚度；b)测量第一厚度(115)；c)提供使用所述第一涂层程序涂覆有抗蚀剂薄膜的第二衬底(120)；d)将第二衬底(125)上的抗蚀剂薄膜曝光于辐射并且测量接近该抗蚀剂薄膜的光化波长的反射谱；e)确定作为该反射谱周期性的函数的有效折射(140，145)率；f)基于该有效折射率，确定涂覆在第二衬底上的抗蚀剂薄膜的摆动曲线(150)的周期性；g)确定作为周期性的函数的最大值和最小值(185)。
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