[发明专利]用于硫化物薄膜沉积的聚硫化物热蒸汽源有效
申请号: | 200480029508.9 | 申请日: | 2004-10-06 |
公开(公告)号: | CN1863938A | 公开(公告)日: | 2006-11-15 |
发明(设计)人: | 詹姆斯·亚历山大·罗伯特·斯泰尔斯;保罗·巴里·德·贝尔·贝卢兹;约翰·韦斯利·莫尔 | 申请(专利权)人: | 伊菲雷技术公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C16/30;C23C16/34;C23C16/44 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 林潮;樊卫民 |
地址: | 加拿大*** | 国省代码: | 加拿大;CA |
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摘要: | 本发明是沉积用于电致发光装置的多元素硫化物薄膜磷组合物的低压物理汽相沉积方法,其中包括聚硫化物化合物的热源提供用于磷膜沉积和/或退火的硫类物质的来源。该方法对于采用具有高介电常数的厚膜介电层的彩色电致发光显示器特别有用。 | ||
搜索关键词: | 用于 硫化物 薄膜 沉积 蒸汽 | ||
【主权项】:
1.一种在低压物理汽相沉积方法中提供硫类物质用于在沉积室内在基底上沉积含硫薄膜磷组合物的方法,该方法包括:—在沉积所述薄膜磷组合物过程中加热包括聚硫化物化合物的热源,以向沉积气氛内挥发硫类物质。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的