[发明专利]由自规避磨粒阵列制造的磨具无效
| 申请号： | 200480029687.6 | 申请日： | 2004-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN1867428A | 公开（公告）日： | 2006-11-22 |
| 发明（设计）人： | R·W·J·霍尔;J·M·莫尔特;C·A·贝特曼 | 申请（专利权）人： | 圣戈本磨料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24D11/00 | 分类号： | B24D11/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 张宜红 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及包含磨粒的磨具，所述磨粒按照不均匀图案定位于阵列中，所述不均匀图案在每个磨粒周围都具有专属区，所述专属区具有大于磨粒所要求粒度范围的最大直径的最小尺寸。本发明描述了设计这种磨粒自规避阵列和将这种阵列转移至磨具主体的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 规避 阵列 制造 磨具 | ||
【主权项】：
1.一种制造在每个磨粒周围具有选定的专属区的磨具的方法，所述方法包括以下步骤：(a)选择具有确定尺寸和形状的两维平面区域；(b)为所述平面区域选择要求的磨粒尺寸和浓度；(c)随机产生一系列两维坐标值；(d)将每对随机产生的坐标值限定为与任何相邻坐标值对相差一个最小值(k)的坐标值；(e)产生有足够数量坐标值对的限定的、随机产生的坐标值阵列，以点的形式绘制在图上，为所选定的两维平面区域产生要求的磨粒浓度和所选定的磨粒尺寸；和(f)将磨粒居中放置在所述阵列的每个点处。
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