[发明专利]用于在工件上无电沉积NiFe的组合物和方法无效
| 申请号： | 200480030104.1 | 申请日： | 2004-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN1867411A | 公开（公告）日： | 2006-11-22 |
| 发明（设计）人： | 约翰·J.·德厄索;贾纳尔·A.·莫拉;凯利·W.·凯勒 | 申请（专利权）人： | 飞思卡尔半导体公司 |
| 主分类号： | B05D7/24 | 分类号： | B05D7/24;B05D1/18;B05D5/12 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李春晖 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了用于在工件(30)上无电沉积NiFe的方法和组合物。用于在工件(30)上无电沉积NiFe的沉积溶液由镍离子源、亚铁离子源、络合剂、还原剂和降pH值剂形成。该沉积溶液基本没有碱金属离子。用于磁电子器件的磁通量集中系统的制造方法从提供工件(30)并在工件(30)之上形成绝缘材料层(34)来开始，在绝缘材料层(34)中形成沟槽(36)，并在沟槽(36)内沉积阻挡层(40)，在所述阻挡层(40)之上沉积NiFe包覆层(46)，在沉积了NiFe包覆层(46)之后，靠近沟槽的绝缘材料层(34)的碱金属离子浓度小于大约1×1011个原子/cm2。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 工件 上无电 沉积 nife 组合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于在工件上无电沉积NiFe的沉积溶液，该沉积溶液由以下成分配制而成：镍离子源；亚铁离子源；络合剂；还原剂；以及pH值调节剂，其中该沉积溶液基本没有碱金属离子。
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