[发明专利]近红外线屏蔽膜

摘要

本发明提供层间附着性高、基本上透明、可在宽带域范围将近红外线高度屏蔽、且不发生电磁波干扰的近红外线屏蔽膜。该近红外线屏蔽膜是含有第1积层膜部分和第2积层膜部分的多层积层膜，这些积层膜均为第1层和第2层交替积层而成，但是构成第2积层膜部分的全部层的平均厚度是构成第1积层膜部分的全部层的平均厚度的1.05～1.6倍。

主权项

1.近红外线屏蔽膜，其特征在于含有第1积层膜部分和第2积层膜部分，所述第1积层膜部分是第1层和第2层交替积层，总计包含101层以上而成的，所述第1层含有熔点在250～260℃范围、且主重复单元含有对苯二甲酸乙二酯的第1芳香族聚酯，厚度在0.1～0.2μm范围，所述第2层含有熔点在200～245℃范围、且主重复单元含有对苯二甲酸乙二酯的第2芳香族聚酯，厚度在0.09～0.22μm范围，其中，第2芳香族聚酯的熔点比第1芳香族聚酯的熔点低15～60℃，且在相邻的第1层和第2层的组合中，第2层的厚度在第1层的厚度的0.9～1.1倍范围的组合为70％以上；所述第2积层膜部分的第1层和第2层平均厚度在第1积层膜部分中第1层和第2层平均厚度的1.05～1.6倍的范围，其他构成与规定第1积层膜部分的上述构成相同。