[发明专利]光学多层结构有效
申请号: | 200480031615.5 | 申请日: | 2004-10-13 |
公开(公告)号: | CN1875413A | 公开(公告)日: | 2006-12-06 |
发明(设计)人: | T·伊施卡瓦;J·F·埃尔曼;D·J·马萨;E·N·蒙特巴赫;D·M·特加登 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼柯达公司 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;B32B27/06;G02B27/28 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 范赤;邹雪梅 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 公开了一种光学多层结构,其包含具有非零平面外双折射率的聚合物基材和包含无定形聚合物的无定形聚合物覆盖层,该无定形聚合物具有高于160℃的Tg值并且具有与所述聚合物基材相反的平面外双折射率符号,从而使所述光学多层结构的总平面外相位延迟对于在400到700nm之间的光的波长,在-30nm和30nm之间。 | ||
搜索关键词: | 光学 多层 结构 | ||
【主权项】:
1.一种光学多层结构,其包含具有非零平面外双折射率的聚合物基材和包含无定形聚合物的无定形聚合物覆盖层,该无定形聚合物具有高于160℃的Tg值并且具有与所述聚合物基材相反的平面外双折射率符号,从而使所述光学多层结构的总平面外相位延迟对于在400到700nm之间的光的波长,在-30nm和30nm之间。
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