[发明专利]等离子体处理衬底的设备和方法无效
| 申请号： | 200480031749.7 | 申请日： | 2004-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN1875453A | 公开（公告）日： | 2006-12-06 |
| 发明（设计）人： | 迈克尔·J.·库科;杰弗里·哈赛尔 | 申请（专利权）人： | 牛津仪器血浆技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李春晖 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 提供用于等离子体处理衬底的设备。该设备具有腔体(2)和由在腔体内部流动的一种或多种气体形成等离子体的等离子体产生器(4)，从而产生一个或多个与置于腔体内的衬底(8)相互作用的物种。提供用于将含有物种的气流引导向衬底(8)的引导器(12)。在使用中，等离子体的宽度大于衬底的宽度，某个量通过该量限定离子体的外部区域。引导器适于将来自基本上整个外部区域的物种引导向衬底。也公开了相应的等离子体处理方法。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 衬底 设备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种用于等离子体处理衬底的设备，包括：腔体，在该腔体内可使一种或多种气体流动；等离子体产生器，用于使在腔体内的气体形成等离子体，从而产生至少一个物种；和引导器，用于将含有物种的气流引导向衬底；其中，如此设置设备，使得使用的等离子体的宽度大于衬底的宽度，宽度之间的差限定了等离子体的外部区域，并且其中引导器适于将来自基本上整个外部区域的物种导向衬底引导。
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