[发明专利]用于元件表面连续处理的设备与处理方法无效
| 申请号： | 200480031868.2 | 申请日： | 2004-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN1894086A | 公开（公告）日： | 2007-01-10 |
| 发明（设计）人： | 福兰克·考伯特 | 申请（专利权）人： | 维克多高级表面技术公司 |
| 主分类号： | B29C59/14 | 分类号： | B29C59/14;H01J37/32 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司 | 代理人： | 刘延喜 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 对由塑料、复合材料、矿物材料或玻璃制成的元件表面进行连续处理的设备，包括一个处理室(1)用以收容待处理元件，该处理室一方面连接抽气装置(2)以造成室(1)内减压，另一方面连接用于引导及循环等离子气体于该室(1)内的装置，所述设备还包括，处理室(1)的相对于所述等离子气体循环方向的上游，用于产生放电于所述等离子气体的装置(5)，其特征在于：处理室(1)较低部包括一个底盘(14)用以收容待处理元件，该底盘可以移动于其以紧密方式封闭处理室(1)较低部的一个位置与底盘(14)距处理室(1)较低部一段充分距离的另一个位置之间，借此才可能放置所述的元件于该底盘(14)上。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 元件 表面 连续 处理 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.对由塑料、复合材料、矿物材料或玻璃制成的元件表面进行连续处理的设备，包括一个处理室(1)用以收容待处理元件，该处理室一方面连接抽气装置(2)以造成室(1)内减压，另一方面连接用于引导及循环等离子气体于该室(1)内的装置，所述设备还包括，处理室(1)的相对于所述等离子气体循环方向的上游，用于产生放电于所述等离子气体的装置(5)，其特征在于：处理室(1)较低部包括一个底盘(14)用以收容待处理元件，该底盘可以移动于其以紧密方式封闭处理室(1)较低部的一个位置与底盘(14)距处理室(1)较低部一段充分距离的另一个位置之间，借此才可能放置所述的元件于该底盘(14)上。
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