[发明专利]形成于半导体晶片上的结构的方位扫描无效
| 申请号： | 200480031908.3 | 申请日： | 2004-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN1875244A | 公开（公告）日： | 2006-12-06 |
| 发明（设计）人： | 约尔格·比朔夫;李世芳;牛新辉 | 申请（专利权）人： | 音质技术公司 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 付建军 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 通过以入射角和方位角将入射光束引导到所述结构，来检查形成于半导体晶片上的结构。在方位角的范围内扫描入射光束以获得方位扫描。在方位扫描过程中，测量衍射光束的正交偏振分量。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 半导体 晶片 结构 方位 扫描 | ||
【主权项】：
1.一种用于检查形成于半导体晶片上的结构的方法，所述方法包括：以入射角和方位角将入射光束引导到所述结构；在方位角的范围内扫描入射光束以获得方位扫描；以及在方位扫描过程中，测量衍射光束的正交偏振分量。
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