[发明专利]等离子处理系统和等离子处理工艺无效
| 申请号： | 200480031931.2 | 申请日： | 2004-10-06 |
| 公开（公告）号： | CN1875454A | 公开（公告）日： | 2006-12-06 |
| 发明（设计）人： | 詹姆斯·格蒂;路易斯·费耶罗 | 申请（专利权）人： | 诺信公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H05H1/24 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 段斌;陆弋 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于采用等离子体来处理多个基片(26)的等离子处理系统(10)。等离子处理系统的处理室(12)包括至少一对典型地垂直方向定位的电极(24)，基片(26)布置在所述电极之间用于等离子处理。每个电极(24)包括容许水平地流过工业气体和等离子体的穿孔板(42，50)，该穿孔板提高了等离子体的均匀性。定义了一种处理方法，该方法能有效地用于去除附着在聚合物基片(26)上并从该基片上伸出的薄的聚合物区域，例如毛边或孔屑。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 系统 工艺 | ||
【主权项】：
1.一种用工业气体产生的等离子体来处理基片(26)的装置(10)，所述装置(10)包括：包含处理空间(16)的处理室(12)、用于抽空所述处理空间(16)的真空端口(19)、以及用于将工业气体引入所述处理空间(16)的气体端口(21)；能够从所述处理空间(16)中的工业气体产生等离子体的等离子体激励源(22)；以及多个与所述等离子体激励源(22)电连接的电极(24)，在所述处理空间(16)中布置所述电极(24)以便在它们之间界定相应的多个处理区域(38)，以用等离子体处理基片(26)，并且每个所述电极(24)包括至少一块穿孔板(42，50)，所述穿孔板(42，50)用于输送工业气体和等离子体通过每个所述电极(24)。
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