[发明专利]厚膜或超厚膜响应的化学放大型光敏树脂组合物有效
| 申请号： | 200480031943.5 | 申请日： | 2004-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN1875323A | 公开（公告）日： | 2006-12-06 |
| 发明（设计）人： | 牧井利道;西胁良典;明石一通 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料（日本）株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/022 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在诸如形成磁头的磁极或形成突块之类要求形成厚抗蚀图案膜的光敏树脂组合物中，提供一种适合用于形成厚膜和超厚膜的化学放大光敏树脂组合物，它具有高灵敏度、高膜残余性能、良好涂敷性能、高分辨率和良好图案形状，并且它能给出耐热性优良的图案。一种化学放大光敏树脂组合物，含有：碱溶性酚醛清漆树脂(A)、自身不溶或微溶于碱但通过酸的作用变得能溶于碱的树脂或化合物(B)、酸产生剂(C)和含醌二叠氮基的光敏剂(D)，如果需要还含有碱溶性丙烯酸树脂(E)和用于改善膜质量的交联剂(F)。 | ||
| 搜索关键词： | 超厚膜 响应 化学 大型 光敏 树脂 组合 | ||
【主权项】：
1.一种化学放大光敏树脂组合物，含有：(A)碱溶性酚醛清漆树脂、(B)自身不溶或微溶于碱但通过酸的作用变得能溶于碱的树脂或化合物、(C)酸产生剂和(D)含醌二叠氮基的光敏剂。
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