[发明专利]用于磁共振成像的可变视野梯度线圈系统无效
| 申请号： | 200480032016.5 | 申请日： | 2004-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN1875288A | 公开（公告）日： | 2006-12-06 |
| 发明（设计）人： | C·L·G·哈姆 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G01R33/385 | 分类号： | G01R33/385 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘红;张志醒 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及用于磁共振成像系统(MRI)的梯度线圈系统，以及涉及包括这种梯度线圈系统的磁共振成像系统(MRI)。磁共振成像系统至少包括主磁系统、梯度线圈系统、RF系统和信号处理系统。根据本发明的梯度线圈系统包括：提供模块化梯度线圈系统的至少两个X初级线圈状元件(X1PC，X2PC)、至少两个Y初级线圈状元件(Y1PC，Y2PC)和一个Z初级线圈状元件(ZPC)，其中至少两个X初级线圈状元件(X1PC，X2PC)自身或者彼此组合具有互不相同的线性体积，至少两个Y初级线圈状元件(Y1PC，Y2PC)自身或者彼此组合具有互不相同的线性体积，以及一个Z初级线圈状元件(ZPC)被设置在X初级线圈状元件(X1PC，X2PC)和Y初级线圈状元件(Y1PC，Y2PC)之间。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 磁共振 成像 可变 视野 梯度 线圈 系统 | ||
【主权项】：
1、一种用于磁共振成像系统的梯度线圈系统，包括提供模块化梯度线圈系统的至少两个X初级线圈状元件、至少两个Y初级线圈状元件和一个Z初级线圈状元件，其中至少两个X初级线圈状元件自身或者彼此组合具有互不相同的线性体积，至少两个Y初级线圈状元件自身或者彼此组合具有互不相同的线性体积，以及这一个Z初级线圈状元件被设置在X初级线圈状元件和Y初级线圈状元件之间。
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