[发明专利]实现高速填充和产量的分布几何和导体模板无效

专利信息
申请号: 200480032145.4 申请日: 2004-11-05
公开(公告)号: CN1906021A 公开(公告)日: 2007-01-31
发明(设计)人: S·V·斯里尼瓦桑;I·M·麦克麦基;崔炳镇;R·D·弗伊欣 申请(专利权)人: 分子制模股份有限公司
主分类号: B32B3/10 分类号: B32B3/10;B32B3/30;B32B33/00;B05D1/02;B05D1/26;B05D1/40;B05D3/06;B05D3/12;B05D3/14;B05D7/24;C23C22/82;C08F2/46;C08J7/18;B41N1/24;G
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 张兰英
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种方法,该方法使用了分布几何、导体模板和在压印平版印刷过程中,形成导体模板以实现高速填充和吞吐量的方法。
搜索关键词: 实现 高速 填充 产量 分布 几何 导体 模板
【主权项】:
1.一种形成导体模板的方法,该方法包括:提供一基板;在基板上形成多个的凹陷和凸起,凹陷的子集的最低点包含电性导体材料,通过在基板上沉积多个的间隔分离的导体区域,以形成多个的导电区域,接着在这层上的多个导电区域内沉积一绝缘材料层。
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