[发明专利]实现高速填充和产量的分布几何和导体模板无效
申请号: | 200480032145.4 | 申请日: | 2004-11-05 |
公开(公告)号: | CN1906021A | 公开(公告)日: | 2007-01-31 |
发明(设计)人: | S·V·斯里尼瓦桑;I·M·麦克麦基;崔炳镇;R·D·弗伊欣 | 申请(专利权)人: | 分子制模股份有限公司 |
主分类号: | B32B3/10 | 分类号: | B32B3/10;B32B3/30;B32B33/00;B05D1/02;B05D1/26;B05D1/40;B05D3/06;B05D3/12;B05D3/14;B05D7/24;C23C22/82;C08F2/46;C08J7/18;B41N1/24;G |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 张兰英 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种方法,该方法使用了分布几何、导体模板和在压印平版印刷过程中,形成导体模板以实现高速填充和吞吐量的方法。 | ||
搜索关键词: | 实现 高速 填充 产量 分布 几何 导体 模板 | ||
【主权项】:
1.一种形成导体模板的方法,该方法包括:提供一基板;在基板上形成多个的凹陷和凸起,凹陷的子集的最低点包含电性导体材料,通过在基板上沉积多个的间隔分离的导体区域,以形成多个的导电区域,接着在这层上的多个导电区域内沉积一绝缘材料层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于分子制模股份有限公司,未经分子制模股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200480032145.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类