[发明专利]用于电化学机械处理的垫组件无效
| 申请号： | 200480032158.1 | 申请日： | 2004-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN1874874A | 公开（公告）日： | 2006-12-06 |
| 发明（设计）人： | 胡永崎;斯坦·D·蔡;王艳;丰·Q·刘;常守荪;陈梁韵 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 赵飞 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了用于处理衬底的处理垫组件的实施例。处理垫组件包括上层和电极，上层具有处理表面，电极具有耦合到上层的顶侧和与顶侧相对的底侧。第一组孔形成为通过上层，以将电极暴露到处理表面。至少一个孔径形成为通过上层和电极。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 电化学 机械 处理 组件 | ||
【主权项】：
1.一种处理垫组件，包括：上层，其具有处理表面；电极，其具有耦合到所述上层的顶侧和与所述顶侧相对的底侧；第一组孔，其形成为通过所述上层以将所述电极暴露到所述处理表面；和至少一个孔径，其形成为通过所述上层和所述电极。
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