[发明专利]用于涂覆平坦基底的一侧或两侧的伸长真空系统

摘要

本发明涉及一种用于涂覆平坦基底的一侧或两侧的伸长真空系统，所述基底被所述系统移动。所述真空系统包括至少一个具有磁控管周围区域的磁控管，并且沿基底的输送方向，真空系统被能够密封的分隔壁分为连续的隔间。通过位于隔间上的真空端部能够直接排空隔间，或者通过分隔壁上的抽吸口间接排空隔间。至少一个隔间包括上方局部隔间，其位于基底上方，所述局部隔间在其至少一个外壁内包括能够密封的上方开口。本发明的目的是，制造伸长真空系统，根据不同的一侧和两侧涂覆处理的要求进行灵活应用，并且在所述系统内进行该处理，所述系统确保稳定、可区分并且过程优化的溅射气氛。通过这样的事实实现该目的，在至少其中一个上方局部隔间内能够安装水平和/或竖直部件，用于将所述上方局部隔间分为数个子隔间。

主权项

1.一种用于涂覆平坦基底的一侧或两侧的伸长真空系统，所述基底能够在输送平台上被输送系统移动所述真空系统，其中，真空系统包括至少一个具有磁控管周围区域的磁控管，并且沿基底的输送方向，真空系统被能够密封的分隔壁分为连续的隔间，所述分隔壁包括抽吸口，通过位于隔间上的真空连接装置能够直接排空基底，或者通过分隔壁上的抽吸口间接排空基底，其中，至少一个隔间包括上方局部隔间，其位于基底上方，所述局部隔间在其至少一个外壁内包括能够密封的上方开口，其特征在于，在至少其中一个上方局部隔间(18)内能够安装水平和/或竖直部件(17，20)，用于将所述上方局部隔间(18)分为数个子隔间(21)。