[发明专利]偏振光分析装置及偏振光分析方法无效
| 申请号： | 200480033567.3 | 申请日： | 2004-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN1930462A | 公开（公告）日： | 2007-03-14 |
| 发明（设计）人： | 川上彰二郎;佐藤尚;桥本直树;佐佐木良裕 | 申请（专利权）人： | 株式会社光学格子;独立行政法人科学技术振兴机构 |
| 主分类号： | G01N21/21 | 分类号： | G01N21/21;G01B11/06 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨凯;刘宗杰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供无驱动部、小型且高速的偏振光分析装置及偏振光椭圆计，其中，将光轴方向互相不同的多个起偏器区域条状配置的一个起偏器阵列和将滞后一定且光轴方向互相不同的多个波片区域条状配置的一个波片阵列，使条纹互相交叉地重叠，并配置受光元件阵列，能以个别地个别地测量通过矩阵状交叉部分的光强度。作为本偏振光分析装置的受光元件阵列观测的二维强度分布图案的分析方法，采用将图案形状数学拟合或进行与数据库的匹配来求入射偏振波的方法；或者对图案形状作傅里叶变换，由频率分量求入射偏振波的方法之一方或两方的算法。另外根据需要，采用除去来自接受不需要的散射光或衍射光的受光元件区域的信号的信号处理方法，可作更高精度的偏振波分析。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振光 分析 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种偏振光分析装置，其特征在于包括：设有带给透射光的相位差一样且光轴方向不同的多个区域的波片阵列；以及设有透过的偏振波方向不同的多个区域的起偏器阵列，所述波片阵列和所述起偏器阵列分别重叠地配置，并配置了可个别接受通过所述波片的特定区域和与该特定区域重叠的所述起偏器区域的光的受光元件阵列。
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