[发明专利]自组装单层的形成无效
| 申请号： | 200480033909.1 | 申请日： | 2004-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN1882664A | 公开（公告）日： | 2006-12-20 |
| 发明（设计）人： | D·布尔丁斯基 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C09D11/00 | 分类号： | C09D11/00;B05D1/28;G03F7/00;G03F7/16 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 韦欣华;段晓玲 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在基材的至少一个表面上形成SAM的方法，通过将2－单，或2，2－二取代的1，3－二硫杂环戊烷施加到所述表面上从而在所述表面上形成由此制备的SAM。 | ||
| 搜索关键词： | 组装 单层 形成 | ||
【主权项】：
1.在基材的至少一个表面上形成SAM的方法，通过将2-单，或2，2-二取代的1，3-二硫杂环戊烷施加到所述表面从而在所述表面上形成由此制备的SAM。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皇家飞利浦电子股份有限公司，未经皇家飞利浦电子股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200480033909.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
