[发明专利]电荷捕获存储器件以及用于操作和制造该单元的方法无效
申请号: | 200480033935.4 | 申请日: | 2004-10-26 |
公开(公告)号: | CN1883046A | 公开(公告)日: | 2006-12-20 |
发明(设计)人: | C·廖;T·米科拉吉克;J·韦勒;H·赖辛格 | 申请(专利权)人: | 英飞凌科技股份公司 |
主分类号: | H01L21/8246 | 分类号: | H01L21/8246;H01L21/28;H01L27/115;H01L29/792;G11C16/04 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 顾珊;梁永 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 电荷捕获层包括在源和漏结上方的两个条带。电荷捕获层和栅极电介质的厚度选择成在擦除过程期间便于产生电子Fowler-Nordheim隧穿到向些条带中。编程是通过将热空穴注入到独立地用于两位存储的这些条带中而进行的。 | ||
搜索关键词: | 电荷 捕获 存储 器件 以及 用于 操作 制造 单元 方法 | ||
【主权项】:
1、电荷捕获存储器件,包括:半导体本体或衬底,其具有设置在所述半导体本体或衬底中的至少一个存储单元;源区和漏区,通过所述半导体本体或衬底中的掺杂区形成并通过结限制;栅极电介质,在所述源区和漏区之间的所述半导体本体或衬底的表面上并具有层厚;在所述栅极电介质上的栅电极;和形成在所述栅极电介质内的电荷捕获层,该电荷捕获层包括两个条带,其各位于所述结的上边界和所述栅电极之间并且被所述栅极电介质包围,所述条带是由具有比栅极电介质更高的相对电容率的材料形成的,和所述条带的层厚是相对于所述条带之间的区域中所述栅极电介质的所述层厚以及所述条带的区域中所述栅极电介质的总层厚而提供的,以使得施加于所述栅电极并用于诱发电子Fowler-Nordheim隧穿到所述电荷捕获层中而提供的正电压在所述条带的所述区域中产生电场强度,其大于或等于在所述存储单元的擦除过程中在所述条带之间的所述区域中的电场强度。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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