[发明专利]中性粒子束处理设备无效

专利信息
申请号: 200480034993.9 申请日: 2004-11-27
公开(公告)号: CN1887035A 公开(公告)日: 2006-12-27
发明(设计)人: 李奉柱;俞席在;李学柱 申请(专利权)人: 韩国基础科学支援研究院;希姆科技有限公司
主分类号: H05H3/06 分类号: H05H3/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 朱进桂
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及一种中性粒子束处理设备。更具体地,本发明涉及一种中性粒子束处理设备,包括:等离子体放电空间,在其内部,通过等离子体放电将处理气体转换为等离子体离子;重金属板,通过碰撞将等离子体离子转换为中性粒子;等离子体限制器,防止等离子体离子和电子通过,并允许由等离子体离子与金属板的碰撞产生的中性粒子通过;以及处理外壳,其内部设置了要处理的基板,其中将等离子体放电空间夹在重金属板和等离子体限制器之间。
搜索关键词: 中性 粒子束 处理 设备
【主权项】:
1.一种中性粒子束处理设备,包括:等离子体放电空间,在其内部,通过等离子体放电将处理气体转换为等离子体离子;重金属板,通过碰撞将等离子体离子转换为中性粒子;等离子体限制器,防止等离子体离子和电子通过,并允许由等离子体离子与金属板的碰撞产生的中性粒子通过;以及处理外壳,其内部设置了要处理的基板,其中将等离子体放电空间夹在重金属板和等离子体限制器之间。
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