[发明专利]中性粒子束处理设备无效
申请号: | 200480034993.9 | 申请日: | 2004-11-27 |
公开(公告)号: | CN1887035A | 公开(公告)日: | 2006-12-27 |
发明(设计)人: | 李奉柱;俞席在;李学柱 | 申请(专利权)人: | 韩国基础科学支援研究院;希姆科技有限公司 |
主分类号: | H05H3/06 | 分类号: | H05H3/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 朱进桂 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及一种中性粒子束处理设备。更具体地,本发明涉及一种中性粒子束处理设备,包括:等离子体放电空间,在其内部,通过等离子体放电将处理气体转换为等离子体离子;重金属板,通过碰撞将等离子体离子转换为中性粒子;等离子体限制器,防止等离子体离子和电子通过,并允许由等离子体离子与金属板的碰撞产生的中性粒子通过;以及处理外壳,其内部设置了要处理的基板,其中将等离子体放电空间夹在重金属板和等离子体限制器之间。 | ||
搜索关键词: | 中性 粒子束 处理 设备 | ||
【主权项】:
1.一种中性粒子束处理设备,包括:等离子体放电空间,在其内部,通过等离子体放电将处理气体转换为等离子体离子;重金属板,通过碰撞将等离子体离子转换为中性粒子;等离子体限制器,防止等离子体离子和电子通过,并允许由等离子体离子与金属板的碰撞产生的中性粒子通过;以及处理外壳,其内部设置了要处理的基板,其中将等离子体放电空间夹在重金属板和等离子体限制器之间。
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