[发明专利]使用化学辅助回流来减小光致抗蚀剂的线缘粗糙度无效
申请号: | 200480035077.7 | 申请日: | 2004-10-15 |
公开(公告)号: | CN1886699A | 公开(公告)日: | 2006-12-27 |
发明(设计)人: | 罗伯特·米格莱;迈克尔·古德纳尔;史蒂夫·E·帕特纳;谢恩·克拉克;W·岳 | 申请(专利权)人: | 英特尔公司 |
主分类号: | G03F7/40 | 分类号: | G03F7/40;G03F7/32 |
代理公司: | 北京嘉和天工知识产权代理事务所 | 代理人: | 严慎 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 通过用塑化剂处理图形化光致抗蚀剂可以减小线缘粗糙度。塑化剂的使用可以以在显影后表面处理光致抗蚀剂的方式来进行。此后,塑化的光致抗蚀剂可以经历加热步骤来回流光致抗蚀剂。回流处理可以减小图形化的、被显影的光致抗蚀剂的线缘粗糙度。 | ||
搜索关键词: | 使用 化学 辅助 回流 减小 光致抗蚀剂 粗糙 | ||
【主权项】:
1.一种方法,包括:显影图形化的光致抗蚀剂;将塑化剂施加到所述图形化的光致抗蚀剂的所述表面,以降低线缘粗糙度;以及在施加所述塑化剂之后,回流所述光致抗蚀剂。
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