[发明专利]可热处理的阻挡阳光和热量的层系统以及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200480035144.5 申请日: 2004-11-25
公开(公告)号: CN1886349A 公开(公告)日: 2006-12-27
发明(设计)人: 马蒂亚斯·利斯特;法尔克·米尔德;克里斯托夫·科克特;约尔格·菲乌科夫斯基 申请(专利权)人: 冯·阿德纳设备有限公司
主分类号: C03C17/36 分类号: C03C17/36;C03C17/34
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 任宇;张文
地址: 德国德*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种可以热处理且可以利用真空涂层法涂覆到玻璃上的阻挡阳光和热量的层系统,这个系统包括至少一个金属层结构和紧邻其下、其上设置的相应介电层结构。本发明目的在于实现这种特殊层系统和制造这种层系统的方法,所述的层系统可以受到不同的热处理,并且在保持原有化学和机械稳定性的基础上,不产生可见的色移。这一目的根据本发明以下述方式实现,即,由至少一个金属层结构和其上、下相应的介电层结构组成了夹层系统,其中,在金属层结构中将金属层嵌入其上下的亚化学计量的氮化和氧化的中间层,并且,介电层结构的夹层系统包括单个的化学计量的和亚化学计量的金属或半导体的氧化物或氮化物,设置于每个夹层系统内部的氧气和氮气欠缺对于相邻的夹层系统来说是增加的,因此在反应的、部分反应的或者不反应的真空涂层过程中形成了氧气和氮气层。
搜索关键词: 热处理 阻挡 阳光 热量 系统 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种可以热处理且可以利用真空涂层法涂覆到玻璃上的阻挡阳光和热量的层系统,所述层系统至少包括一个金属层结构以及紧邻其下设置的下介电层结构和紧邻其上设置的上介电层结构,其特征在于,至少由一金属层结构(4)以及至少一个上介电层结构(2)和至少一个下介电层结构(3)构成夹层系统,其中,在金属层结构(4)中,由至少一个单层组成的金属层(8)嵌入由金属层(8)的亚化学计量的氮化或氧化的金属构成的上中间层(9)和下中间层(7)之间,并且,另外下介电层结构(3)和上介电层结构(2)的介电层结构具有化学计量的金属或半导体的氧化物或氮化物层(5、11)以及另一亚化学计量的金属或半导体的氧化物或氮化物层,其中,介电层结构(2、3)内部的各层这样设置:同相邻层相比,金属或半导体的氧化物或者金属或半导体的氮化物中氧或氮欠缺较多的层,总是位于朝向金属层(8)的一侧。
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