[发明专利]光记录介质无效
| 申请号： | 200480036207.9 | 申请日： | 2004-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN1890732A | 公开（公告）日： | 2007-01-03 |
| 发明（设计）人： | 山田胜幸;鸣海慎也;加藤将纪;中村有希 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | G11B7/24 | 分类号： | G11B7/24 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 杨梧;王景刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光记录介质，高温高湿的保存可靠性高，且高温动作稳定，机械性能良好、生产性高，可进行高速再生或高速记录。在基板上至少具有下部保护层、光记录层、上部保护层、含有大于或等于98重量％Ag的光反射层，光记录的膜厚为8～14nm，上部保护层的膜厚为4～24nm，上部保护层含有氧化锌、氧化铟、氧化锡、氧化铌、氮化硅、氮化铵、SiOx(1.6≤X≤1.9)中的至少一种，至少不含有大于或等于0.1重量％的硫磺及氯的任意一种，上部保护层即使在记录或重写之后还是非晶质。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 | ||
【主权项】：
1、一种光记录介质，其特征在于：在基板上至少具有下部保护层、光记录层、上部保护层、含有大于或等于98重量％Ag的光反射层，光记录的膜厚度为8～14nm，上部保护层的膜厚度为4～24nm，上部保护层含有氧化锌、氧化铟、氧化锡、氧化铌、氮化硅、氮化铵、SiOx(1.6≤X≤1.9)中的至少一种，不含有大于或等于0.1重量％的硫磺及氯中的至少任意一种，上部保护层即使在记录或改写之后也还是非晶质。
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