[发明专利]光刻设备的传感器以及获得光刻设备的测量的方法无效

专利信息
申请号: 200480036538.2 申请日: 2004-12-09
公开(公告)号: CN1890608A 公开(公告)日: 2007-01-03
发明(设计)人: F·J·范豪特;J·A·M·范博梅;P·迪克森;M·克鲁恩;C·A·H·朱弗曼斯;R·M·A·M·范登埃登 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司;皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张雪梅;陈景峻
地址: 荷兰费*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种传感器装置(10)可用于测量被设置用于处理衬底的设备的特性,例如光学特性。该传感器装置包括衬底(1),其具有:被设置作为衬底中的集成电路的多个传感元件(2),对于该多个传感元件中的每一个,相关电子电路包括连接到该传感元件的处理电路(6)和连接到该处理电路的输入/输出接口(8),以及被配置用于仅向与正在使用的该多个传感元件中的一个或多个相关的电子电路提供工作功率的电源单元(9)。该至少一个传感元件(2)和可能的处理电子线路(4)、输入/输出单元(8)、和/或电源单元(9)可被设置作为衬底(1)中的一个或多个集成电路或其它结构。
搜索关键词: 光刻 设备 传感器 以及 获得 测量 方法
【主权项】:
1.一种包括衬底的传感器装置,所述传感器装置具有:被设置作为衬底中的集成电路的多个传感元件;对于该多个传感元件中的每一个,相关电子电路包括:-连接到该传感元件的处理电路,-连接到该处理电路的输入/输出接口;以及被配置用于仅向与正在使用的该多个传感元件中的一个或多个相关的电子电路提供工作功率的电源单元。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司;皇家飞利浦电子股份有限公司,未经ASML荷兰有限公司;皇家飞利浦电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200480036538.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top