[发明专利]光刻设备的传感器以及获得光刻设备的测量的方法无效
申请号: | 200480036538.2 | 申请日: | 2004-12-09 |
公开(公告)号: | CN1890608A | 公开(公告)日: | 2007-01-03 |
发明(设计)人: | F·J·范豪特;J·A·M·范博梅;P·迪克森;M·克鲁恩;C·A·H·朱弗曼斯;R·M·A·M·范登埃登 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司;皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 张雪梅;陈景峻 |
地址: | 荷兰费*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 一种传感器装置(10)可用于测量被设置用于处理衬底的设备的特性,例如光学特性。该传感器装置包括衬底(1),其具有:被设置作为衬底中的集成电路的多个传感元件(2),对于该多个传感元件中的每一个,相关电子电路包括连接到该传感元件的处理电路(6)和连接到该处理电路的输入/输出接口(8),以及被配置用于仅向与正在使用的该多个传感元件中的一个或多个相关的电子电路提供工作功率的电源单元(9)。该至少一个传感元件(2)和可能的处理电子线路(4)、输入/输出单元(8)、和/或电源单元(9)可被设置作为衬底(1)中的一个或多个集成电路或其它结构。 | ||
搜索关键词: | 光刻 设备 传感器 以及 获得 测量 方法 | ||
【主权项】:
1.一种包括衬底的传感器装置,所述传感器装置具有:被设置作为衬底中的集成电路的多个传感元件;对于该多个传感元件中的每一个,相关电子电路包括:-连接到该传感元件的处理电路,-连接到该处理电路的输入/输出接口;以及被配置用于仅向与正在使用的该多个传感元件中的一个或多个相关的电子电路提供工作功率的电源单元。
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