[发明专利]具有薄膜的打印头有效
| 申请号： | 200480036898.2 | 申请日： | 2004-10-07 |
| 公开（公告）号： | CN1890104A | 公开（公告）日： | 2007-01-03 |
| 发明（设计）人： | 陈振方;安德烈亚斯·比布尔;杰弗里·伯克迈耶 | 申请（专利权）人： | 迪马蒂克斯股份有限公司 |
| 主分类号： | B41J2/16 | 分类号： | B41J2/16;B41J2/155 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李晓舒;魏晓刚 |
| 地址： | 美国新罕*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明描述了微加工器件及用于形成微加工器件的方法。包括硅(680)的薄膜通过将绝缘体上硅衬底(685)结合到硅衬底而形成在硅体(25)上。绝缘体上硅衬底的柄和绝缘层(695，690)被去除，留下结合到硅体的硅薄膜，使得没有绝缘体材料的中间层留在所述膜与所述体之间。压电层被结合到所述膜。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 薄膜 打印头 | ||
【主权项】：
1.一种形成微加工器件的方法，包括：蚀刻衬底的上表面从而形成至少一个蚀刻特征；将多层衬底结合到所述衬底的所述上表面，使得所述上表面上的所述蚀刻特征被覆盖从而形成室，所述多层衬底包括硅层和柄层，其中所述结合形成所述衬底的所述上表面与所述硅层之间的硅到硅结合；以及从所述多层衬底去除所述柄层从而在所述室之上形成包括所述硅层的膜。
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